Système de revêtement horizontal par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma Laplace PECVD VEGA LVG400 / 0X
Système de revêtement horizontal par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma Laplace PECVD VEGA LVG400 / 0X

Le dernier système de revêtement horizontal à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma de Laplace peut être appliqué à divers processus de croissance des batteries à haute efficacité AlOx et SiNx, et constitue l'équipement de base pour la production et le développement de diverses cellules solaires.

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Caractéristiques d'application


Cet équipement intègre divers processus de revêtement tels que SiO2, SiC, AlOx et SiNx, ce qui peut aider les clients à réduire l'investissement en immobilisations et à améliorer le rendement des batteries. L'appareil est placé horizontalement, adapté à la production de grandes plaquettes de silicium de 210 mm, sans impression de carte, sans rayures, et peut aider les clients à améliorer l'efficacité et le rendement de la batterie.


拉普拉斯等离子体增强化学气相沉积水平镀膜系统 LVG400/2

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