Système de revêtement horizontal de dépôt de couche atomique renforcée par plasma horizontal Laplace PEALD LAD400 / 04
Système de revêtement horizontal de dépôt de couche atomique renforcée par plasma horizontal Laplace PEALD LAD400 / 04

Le dernier système de revêtement horizontal de dépôt de couche atomique amélioré par plasma de Laplace peut être appliqué à divers AlOx de cellules solaires à haute efficacité et à divers processus de croissance de films fonctionnels, et constitue l'équipement de base de diverses cellules solaires.

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Caractéristiques d'application：


L'appareil est placé horizontalement, adapté à la production de grandes plaquettes de silicium de 210 mm, sans impression de carte, sans rayures, et peut aider les clients à améliorer l'efficacité et le rendement de la batterie.


拉普拉斯等离子体增强原子层沉积水平镀膜系统 LAD400/04


拉普拉斯等离子体增强原子层沉积水平镀膜系统 LAD400/04


拉普拉斯等离子体增强原子层沉积水平镀膜系统 LAD400/04


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